国家知识产权局信息显示，晶铁半导体技术（广东）有限公司申请一项名为“一种恢复氧化铪基铁电擦写印记现象的方法”的专利，公开号CN121393494A，申请日期为2025年10月。

　　专利摘要显示，本发明提出了一种恢复氧化铪基铁电擦写印记现象的方法，涉及铁电薄膜领域，包括对施加电脉冲进行数据擦写后的氧化铪基铁电薄膜器件，施加双极性电脉冲，或与数据擦写电脉冲结束后极化方向相反的单极性电脉冲。通过该方法，能够有效恢复因为数据擦写导致的印记偏移场。

　　天眼查资料显示，晶铁半导体技术（广东）有限公司，成立于2021年，位于广州市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本2339.1812万人民币。通过天眼查大数据分析，晶铁半导体技术（广东）有限公司共对外投资了2家企业，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可11个。

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